快科技5月10日讯息，近日，一则"上海微电子28nm浸没式DUV光刻机完成首批批量拜托"的讯息刷屏半导体圈。

对此，芯智讯发布著作辟谣，直指该讯息存在多处严重事实失实。

著作领先质疑了报谈的信源问题。该报谈仅以"据报谈"依稀其辞，莫得说起任何具体的巨擘起首，这关于光刻机这么的紧要科技新闻来说，显着枯竭基本的严肃性。

报谈宣称"2026年1月，上海微电子在长三角半导体产业峰会上初次官宣SSA800系列已毕全面量产"。但拜访发现，这个所谓的“长三角半导体产业峰会”莫得任何巨擘媒体报谈，查不到举办时分、所在、专揽方等任何基本信息。上海微电子官方也从未发布过联系公告。网上所筹办于该峰会的内容，一皆都是与"上海微电子官宣量产"绑定的自媒体通稿。

另一个作假说法是"2026年3月SEMICONChina展会上，上海微电子初次公开展示了SSA800样机"。芯智讯记者明确暗意，我方那时就在展会现场，上海微电子的展台上根柢莫得这款竖立。展会时间及斥逐后，也莫得任何正规媒体报谈过此事。

最离谱的是"量产良率90%~95%"的说法。一位光刻机厂商里面东谈主士直言："这是假讯息，光刻机那里来的良率。"光刻机是坐褥芯片的竖立，自己不存在"良率"这一缱绻。

即便指的是用它坐褥芯片的良率，世界杯预选赛下单这个数字也过于夸张。要知谈台积电28nm工艺2011年量产后，直到2012年8月良率才凑合普及80%。

一位国内晶圆代工场东谈主士知道，当今SSA800系列并未参预任何交易化晶圆厂，仍然在集成电路研发中心（ICRD）进行测历练证。所谓的"首批批量拜托"和"量产工艺考据"均与事实不符。

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据了解，SSA800内容上即是近几年阛阓一直传说的国产“28nm光刻机”，是一款193nmArF浸没式光刻机，套刻精度范围在2.3~2.5nm，每小时可解决150片晶圆，对方向是ASML TWINSCAN NXT:1950i。后者的专用卡盘套刻精度为2.5nm，夹杂匹配套刻精度为3.5nm，每小时可解决200片晶圆。

著作终末暗意，期盼国产光刻机冲突是每一个中国东谈主的朴素心境，但越是渴慕，越应该守住感性底线。子虚的"放卫星"不仅会误导公众，还会遏止产业链牢固攻坚的严肃性。

真实的手艺解围，从来不需要靠炒作来讲明我方。

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